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洗浄を簡単にし、洗浄時間、ランニングコスト、水消費量を節約！
『HPX-CZ』は、様々な洗浄用途に対応できるよう、高い耐久性と洗浄性能を 兼ね備えた揺動ジェットノズルです。 洗浄性能や耐久性を損なうことなく、ハンドガンで使用する高圧洗浄機で 長時間使用できるように軽量化。 サイクロンジェットノズルで発生する不快な振動を防ぐように設計されており、 使用者の安全にも配慮してあります。そのため1日中使用することも可能です。 【特長】 ■非常に高い耐久性 ■作動圧：6.0～22.0MPa(60-220bar) ■流量・圧力に関係なく所定の噴射角を維持 ■可動部品・摩耗部品がなくメンテナンス頻度低減 ■処理水での使用に好適 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
可動部品が無くても左右に振動する流体を生成可能なノズル。 ポンプの小型化、省エネ、水消費量の削減、高洗浄力を実現、打力UP！
ノズル内部の特殊構造で可動部品を使用せずに無動力で左右に振動する流体を生成！ その為、振動・音を小さくする事が出来ます。 可動部品が無い為、メンテナンスが不要、長寿命化、電気制御も無いので配線接続が不要です。 最高圧200barまで対応し洗車機業界、高圧洗浄機業界での採用多数。 加工機内の切粉を除去するウォーターノズル又はエアーノズルとしても効果有り。 ノズル一つで水もエアーもクーラント等様々な流体を使用出来ますので非常に経済的です。 クーラント液(切削液)を使用した切粉除去は既存のスプレーノズル(扇状)と交換して効果を実感して下さい。 ネジ接続口径R1/4”や1/8”、カプラ仕様等です。特注品も対応可能。 切粉の除去率を改善し加工効率を向上する事で加工製品に傷が付いたり、切削工具の寿命改善、切粉によるライン停止、清掃時間の短縮が可能です。 デモ機有りますのでテスト可能。
食品洗浄の常識を塗り替える！高い耐久性があるため処理水を使用することも可能
『HPX-CW』は、高圧食品洗浄機のノズルを変えるだけで圧倒的な洗浄力を発揮する様に設計された揺動ジェットノズルです。 噴射角は30°と45°があり、広範囲を短時間で洗浄することが可能。 4.0MPa(40bar)ですでに十分な洗浄パワーを発揮します。 同時に洗浄時間とランニングコスト（洗浄水量を大幅削減）を低減することができます。 通常のサイクロンジェットノズルで発生する振動などがないため、機械への負荷も低減することができます。 【特長】 ■食品洗浄機械に最適化 ■高耐久かつメンテナンスフリー ■処理水での使用にも好適 ■作動圧：4.0～13.0MPa(40-130bar) ■流量・圧力に関係なく所定の噴射角を維持 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
機械加工では製造できないノズル形状
電気鋳造小型ジェットノズルは、電気鋳造（電鋳）を用いてノズルを作製する弊社独自の特許取得済技術です。機械加工では困難な微細な形状のノズルを製造することができます。
純粋のジェット水流を可動部品無しで揺動させるPVDF製ノズル！半導体業界や食品業界向け
直進ジェット+扇形ノズルのハイブリットノズル！ 扇形ノズルだと圧力が分散され低くなりますが、揺動ジェットノズルは直進ジェットをノズル内部の構造のみで扇形ノズルの様に揺動させて噴射する事が出来ます。 その為、直進ジェットの圧力で扇形ノズルの様に広範囲に噴射出来ます。 可動部品を一切使用せず、無動力で左右に振動しますので、故障のリスクが低減出来て且つ流路径が大きい為目詰まりしにくい構造で長期に亘って使用可能です。 ワーク表面に衝撃を与える為の間欠動作や切換えの早い電磁弁操作等が不要になります。 水の消費量を最大40％削減する省エネノズルです。 また、振動・音が小さく、可動部品が無い為メンテナンスが不要、電気制御も無いので配線接続が不要です。 ノズル一つで水もエアーもクーラント等様々な流体を使用出来ますので非常に経済的です。 ネジ接続口径はR1/4”のみですが特注品も対応可能。 洗浄工程時にメタルコンタミのリスクを無くします。 現状は1.2L/min at 3barの噴射角度45°のみ。
均一な冷却を実現！電子機器の温度管理に貢献。
電子機器業界では製品の性能維持と長寿命化のために効果的なエッチング、冷却など不可欠です 特に高密度実装が進む現代の電子機器においては、局所的な過熱が性能劣化や故障の原因となるため、精密なエッチング、冷却技術が求められます。 レヒラー社製フラットジェットスプレーノズルは、均一な液体の散布により、電子機器の冷却効率を最適化し、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 1. ウェハー洗浄（純水・薬液スプレー） 有機物・金属汚染の洗浄 スプレー角度を最適化して均一洗浄 2. リンス工程（純水置換） 薬液残渣を均一に洗い流す ウェットプロセスの後工程で必須 3. 現像・エッチング工程の薬液スプレー 現像液・エッチング液を均一に供給 過剰現像やエッチングムラを防止 4. 冷却（ウェハー・基板・装置部品） 高密度実装基板やウェハーの冷却 均一な液膜で熱ムラを抑制 5. パーティクル除去（高圧洗浄） フラットノズルで微粒子を除去 ウェハー・FPD・ガラス基板の精密洗浄 【導入の効果】 ・均一な冷却による製品寿命の延長 ・過熱による性能劣化の防止 ・製造プロセスの安定化
